Información Básica.
Descripción de Producto
Introducción:
Este tipo de la pequeña máquina de recubrimiento de plasma de sputtering adopta dos etapas del método de sputtering, que es ampliamente utilizado para la preparación de muestras de SEM o revestimiento de metal experimento. Utilizando sputtering plasma de baja temperatura del proceso, no hay ninguna temperatura alta durante el proceso de revestimiento, y no es fácil de producir daño térmico. Este pequeño sputtering plasma utiliza control PLC satinadora sistema, la pantalla táctil, fácil de aprender y usar. Este modelo de la máquina está equipada también con una etapa de la muestra giratorio, que puede mejorar la homogeneidad del recubrimiento. (Este equipo está equipado con una muestra de la calefacción rota, que puede mejorar la uniformidad de la capa y la adhesión de la película. ) Este pequeño instrumento de sputtering plasma utiliza un sistema de control PLC, toda la pantalla táctil, fácil de aprender y usar. El equipo es de tamaño pequeño y hermoso en apariencia, lo que la mejor opción para el revestimiento de laboratorio de experimentos.
Aplicación
Puede ser utilizado para el revestimiento de sputter de metal, especialmente para los recubrimientos metálicos como el oro, plata y cobre.
Parámetros técnicos:
| Etapa de la muestra | El tamaño | 100mm. |
| La velocidad de rotación | Ajustable de rpm de 1~20 | |
| Temperatura de calentamiento | ≤500ºC | |
| La precisión de control de temperatura | ±1ºC Control de temperatura PID | |
| Fuente de sputtering plasma | La cantidad | 2 pulgadas X1 |
| Método de refrigeración | Refrigeración por agua | |
| La cámara de vacío | El tamaño de la cámara | Φ180mm x 210mm |
| Ventana de observación | Visibilidad omnidireccional | |
| Material de la cámara | De cuarzo de alta pureza | |
| Método abierto | La tapa superior desmontable | |
| Material de la cubierta superior e inferior | Acero inoxidable 304 | |
| Puerto de bombeo | KF16 | |
| Puerto de admisión | Conector de la virola de 1/4 pulg. | |
| Configuración de energía | La cantidad | La alimentación de CC supplyx1 |
| La potencia de salida | Max. 150W | |
| El poder de sputtering | 1200V | |
| Max actual de sputtering. | 50mA | |
| Sistema de vacío. | Tipo de bomba de vacío | Fase de doble bomba de vacío rotativas |
| Puerto de bombeo | KF16 | |
| Interface escape | KF16 | |
| La tasa de bombeo | 1.1L/s(4M3/h) | |
| Vacío final | ≥0.1Pa | |
| Medición de vacío | La resistencia indicador de vacío. | |
| Otros | Fuente de alimentación | AC 220V 50Hz |
| La potencia total | 2kW | |
| La dimensión | 500 mm x 320 mm x470mm | |
| El peso | 30kg. |
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